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少量未處理的灰塵微粒或者氣體(tǐ)分(fēn)子可能嚴重影響一(yī)些工(gōng)藝流程。請想象一(yī)下(xià)污染的空氣對半導體(tǐ)這種高度敏感的制造工(gōng)藝流程可能産生(shēng)什麽樣的危害。

在半導體(tǐ)生(shēng)産中(zhōng)，前沿的生(shēng)産技術需要潔淨度很高的空氣，而且這一(yī)潔淨度要求還在不斷提高。通常要求晶圓生(shēng)産環境的灰塵粒徑要小(xiǎo)于25nm（2009年），目前這一(yī)粒徑值還在減小(xiǎo)，預計到2017年将減小(xiǎo)到10nm。氣載分(fēn)子污染物(wù)（AMC）也是高級晶圓廠關注的問題。很多氣載分(fēn)子污染物(wù)（AMC）都被證實會影響産品良率。例如，酸性氣體(tǐ)會腐蝕硬盤或晶圓，可凝性有機物(wù)的沉降和低濃度氨氣的存在會影響生(shēng)産操作。

潔淨室的重心就是空氣過濾設備，根據不同的潔淨室類型，需要考慮使用不同的過濾設備。

憑借15年以上的微電子和半導體(tǐ)污染控制技術行業經驗以，嘉科能夠提供合理的潔淨空氣解決方案。使以下(xià)工(gōng)藝得到保護:

晶圓及半導體(tǐ)

微電子工(gōng)藝設備

硬盤驅動

印刷電路闆

平闆顯示

太陽能面闆

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